Silicon Carbide Wafer Chuck

Ginagamit ng VeTek Semiconductor Silicon Carbide Wafer Chuck ang mahuhusay na katangian ng mga materyales ng Silicon Carbide upang matugunan ang mahigpit na pangangailangan ng produksyon ng semiconductor, lalo na sa pagproseso ng semiconductor na nangangailangan ng napakataas na katumpakan at pagiging maaasahan.

Sa proseso ng pagproseso ng semiconductor,Silicon Carbideay may mahusay na mataas na temperatura na paglaban (maaaring gumana nang matatag hanggang sa 1400°C), mababang kondaktibiti (Ang SiC ay may medyo mababang kondaktibiti, karaniwang 10^^-3S/m) at mababang thermal expansion coefficient (mga 4.0 × 10^^-6/°C), na isang kailangang-kailangan at mahalagang materyal, lalo na angkop para sa paggawa ng Silicon Carbide Wafer Chuck.

Sa panahon ngproseso ng paglago ng epitaxial, ang isang manipis na layer ng semiconductor na materyal ay idineposito sa isang substrate, na nangangailangan ng ganap na katatagan mula sa wafer upang matiyak ang pare-pareho at mataas na kalidad na mga layer ng deposition ng pelikula. Nagagawa ito ng SiC Vacuum Chuck sa pamamagitan ng paggawa ng matatag at pare-parehong vacuum hold upang maiwasan ang anumang paggalaw o pagpapapangit ng wafer.

Ang Silicon Carbide Wafer Chuck ay nag-aalok din ng mahusay na pagtutol sa thermal shock. Ang mabilis na pagbabago sa temperatura ay karaniwan sa paggawa ng semiconductor, at ang mga materyales na hindi makatiis sa mga pagbabagong ito ay maaaring pumutok, yumuko, o mabigo. Ang Silicon carbide ay may mababang koepisyent ng thermal expansion at maaaring mapanatili ang hugis at paggana nito kahit na sa ilalim ng matinding pagbabago ng temperatura, na tinitiyak na ang wafer ay nananatiling ligtas sa panahon ng proseso ng epitaxy nang walang paggalaw o misalignment.

Bukod dito, angproseso ng epitaxykadalasang kinasasangkutan ng mga reaktibong gas at iba pang mga kinakaing kemikal. Tinitiyak ng chemical inertness ng SiC Wafer Chuck na hindi ito apektado ng mga malupit na kapaligiran na ito, pinapanatili ang pagganap nito at pinahaba ang buhay ng serbisyo nito. Ang tibay ng kemikal na ito ay hindi lamang binabawasan ang dalas ng pagpapalit ng Wafer Chuck, ngunit tinitiyak din ang pare-parehong pagganap ng produkto sa maraming mga ikot ng produksyon, na tumutulong upang mapabuti ang pangkalahatang kahusayan at pagiging epektibo sa gastos ng proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor.

Ang VeTek Semiconductor ay isang nangungunang tagagawa at supplier ng mga produkto ng Silicon Carbide Wafer Chuck sa China. Maaari kaming magbigay ng iba't ibang uri ng mga produkto ng Chuck tulad ngBuhaghag na SiC Ceramic Chuck, Buhaghag na SiC Vacuum Chuck, Porous Ceramic Vacuum ChuckatTaC Coated Chuck, atbp. Ang VeTek Semiconductor ay nakatuon sa pagbibigay ng advanced na teknolohiya at mga solusyon sa produkto para sa industriya ng semiconductor. Taos-puso kaming umaasa na maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

SEM DATA NG CVDSIC FILM CRYSTAL STRUCTURE：

Mga Tindahan ng VeTek Semiconductor Silicon Carbide Wafer Chuck：