China Teknolohiya ng MOCVD Manufacturer, Supplier, Factory

Ang VeTek Semiconductor ay may kalamangan at karanasan sa mga ekstrang bahagi ng MOCVD Technology.

MOCVD, ang buong pangalan ng Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (metal-organic Chemical Vapor Deposition), ay maaari ding tawaging metal-organic vapor phase epitaxy. Ang Organometallic Compound ay isang klase ng mga compound na may metal-carbon bond. Ang mga compound na ito ay naglalaman ng hindi bababa sa isang kemikal na bono sa pagitan ng isang metal at isang carbon atom. Ang mga metal-organic na compound ay kadalasang ginagamit bilang mga precursor at maaaring bumuo ng mga manipis na pelikula o nanostructure sa substrate sa pamamagitan ng iba't ibang mga diskarte sa pag-deposition.

Ang metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD technology) ay isang pangkaraniwang epitaxial growth technology, ang MOCVD na teknolohiya ay malawakang ginagamit sa paggawa ng mga semiconductor laser at led. Lalo na kapag ang pagmamanupaktura ng mga led, ang MOCVD ay isang pangunahing teknolohiya para sa produksyon ng gallium nitride (GaN) at mga kaugnay na materyales.

Mayroong dalawang pangunahing anyo ng Epitaxy: Liquid Phase Epitaxy (LPE) at Vapor Phase Epitaxy (VPE). Ang gas phase epitaxy ay maaaring nahahati pa sa metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) at molecular beam epitaxy (MBE).

Ang mga tagagawa ng dayuhang kagamitan ay pangunahing kinakatawan ng Aixtron at Veeco. Ang MOCVD system ay isa sa mga pangunahing kagamitan para sa pagmamanupaktura ng mga laser, led, photoelectric component, power, RF device at solar cell.

Mga pangunahing tampok ng teknolohiya ng MOCVD na mga ekstrang bahagi na ginawa ng aming kumpanya:

1) Mataas na density at buong encapsulation: ang graphite base sa kabuuan ay nasa isang mataas na temperatura at kinakaing unti-unti na kapaligiran sa pagtatrabaho, ang ibabaw ay dapat na ganap na nakabalot, at ang patong ay dapat na may mahusay na densification upang maglaro ng isang mahusay na proteksiyon na papel.

2) Magandang surface flatness: Dahil ang graphite base na ginagamit para sa solong paglaki ng kristal ay nangangailangan ng napakataas na surface flatness, ang orihinal na flatness ng base ay dapat mapanatili pagkatapos maihanda ang coating, iyon ay, ang coating layer ay dapat na pare-pareho.

3) Magandang lakas ng pagbubuklod: Bawasan ang pagkakaiba sa koepisyent ng thermal expansion sa pagitan ng graphite base at ng coating material, na maaaring epektibong mapabuti ang lakas ng bonding sa pagitan ng dalawa, at ang coating ay hindi madaling ma-crack pagkatapos makaranas ng mataas at mababang temperatura ng init ikot.

4) Mataas na thermal conductivity: ang mataas na kalidad na paglaki ng chip ay nangangailangan ng graphite base upang magbigay ng mabilis at pare-parehong init, kaya ang materyal na patong ay dapat magkaroon ng mataas na thermal conductivity.

5) Mataas na punto ng pagkatunaw, mataas na temperatura na paglaban sa oksihenasyon, paglaban sa kaagnasan: ang patong ay dapat na gumana nang matatag sa mataas na temperatura at kinakaing unti-unti na kapaligiran sa pagtatrabaho.

Maglagay ng 4 na pulgadang substrate
Blue-green epitaxy para sa lumalaking LED
Nakatira sa reaction chamber
Direktang kontak sa ostiya Maglagay ng 4 na pulgadang substrate
Ginamit upang palaguin ang UV LED epitaxial film
Nakatira sa reaction chamber
Direktang kontak sa ostiya Veeco K868/Veeco K700 Machine
White LED epitaxy/Asul-berde na LED epitaxy Ginamit sa VEECO Equipment
Para sa MOCVD Epitaxy
SiC Coating Susceptor Kagamitang Aixtron TS
Malalim na Ultraviolet Epitaxy
2-pulgada na substrate Kagamitang Veeco
Pula-Dilaw na LED Epitaxy
4-pulgada na Wafer Substrate TaC Coated Susceptor
(SiC Epi/ UV LED Receiver) SiC Coated Susceptor
(ALD/ Si Epi/ LED MOCVD Susceptor)

View as

CVD SiC Coated Wafer Barrel Holder

Ang CVD SiC coated wafer Barrel holder ay ang pangunahing bahagi ng epitaxial growth furnace, na malawakang ginagamit sa MOCVD epitaxial growth furnace. Ang VeTek Semiconductor ay nagbibigay sa iyo ng lubos na na-customize na mga produkto. Anuman ang iyong mga pangangailangan para sa CVD SiC coated wafer Barrel holder, Maligayang pagdating upang kumonsulta sa amin.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

CVD SiC Coating Wafer Epi Susceptor

Ang VeTek Semiconductor CVD SiC coating wafer Ang Epi susceptor ay isang kailangang-kailangan na bahagi para sa paglago ng SiC epitaxy, na nag-aalok ng mahusay na pamamahala ng thermal, paglaban sa kemikal, at katatagan ng dimensional. Sa pamamagitan ng pagpili ng VeTek Semiconductor's CVD SiC coating wafer Epi susceptor, pinapahusay mo ang pagganap ng iyong mga proseso ng MOCVD, na humahantong sa mas mataas na kalidad ng mga produkto at mas mahusay na kahusayan sa iyong mga operasyon sa pagmamanupaktura ng semiconductor. Maligayang pagdating sa iyong mga karagdagang katanungan.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

CVD SiC coating graphite susceptor

Ang VeTek Semiconductor CVD SiC coating graphite susceptor ay isa sa mga mahalagang bahagi sa industriya ng semiconductor tulad ng epitaxial growth at wafer processing. Ginagamit ito sa MOCVD at iba pang kagamitan upang suportahan ang pagproseso at paghawak ng mga wafer at iba pang materyal na may mataas na katumpakan. Ang VeTek Semiconductor ay may nangungunang SiC coated graphite susceptor at TaC Coated Graphite Susceptor na kakayahan sa produksyon at pagmamanupaktura ng China, at inaasahan ang iyong konsultasyon.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

Mataas na kadalisayan ng graphite ring

Ang high purity graphite ring ay angkop para sa GaN epitaxial growth na proseso. Ang kanilang mahusay na katatagan at superyor na pagganap ay ginawa silang malawakang ginagamit. Ang VeTek Semiconductor ay gumagawa at gumagawa ng nangunguna sa mundo na High purity graphite ring upang matulungan ang industriya ng GaN epitaxy na patuloy na umunlad. Inaasahan ng VeTekSemi na maging kasosyo mo sa China.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

SiC Coated Graphite Susceptor para sa MOCVD

Ang VeTek Semiconductor ay isang nangungunang tagagawa at supplier ng SiC Coated Graphite Susceptor para sa MOCVD sa China, na dalubhasa sa mga application ng SiC coating at mga produktong epitaxial semiconductor para sa industriya ng semiconductor. Ang aming MOCVD SiC coated graphite susceptor ay nag-aalok ng mapagkumpitensyang kalidad at pagpepresyo, na nagsisilbi sa mga merkado sa buong Europe at America. Nakatuon kami na maging iyong pangmatagalan, pinagkakatiwalaang partner sa pagsulong ng semiconductor manufacturing.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

MOCVD SiC coating susceptor

Ang VeTek Semiconductor ay isang nangungunang tagagawa at supplier ng MOCVD SiC coating susceptors sa China, na nakatuon sa R&D at produksyon ng mga SiC coating na produkto sa loob ng maraming taon. Ang aming mga MOCVD SiC coating susceptors ay may mahusay na high temperature tolerance, magandang thermal conductivity, at mababang thermal expansion coefficient, na gumaganap ng mahalagang papel sa pagsuporta at pag-init ng mga wafer ng silicon o silicon carbide (SiC) at pare-parehong pagdeposito ng gas. Maligayang pagdating upang kumonsulta pa.

Magbasa pa Magpadala ng Inquiry

<1 2 3 4 5 >

Bilang isang propesyonal na Teknolohiya ng MOCVD tagagawa at supplier sa China, mayroon kaming sariling pabrika. Kung kailangan mo ng mga customized na serbisyo upang matugunan ang mga partikular na pangangailangan ng iyong rehiyon o gusto mong bumili ng advanced at matibay Teknolohiya ng MOCVD na gawa sa China, maaari kang mag-iwan sa amin ng mensahe.