SiC Cantilever Paddle

Ang SiC Cantilever Paddle ng VeTek Semiconductor ay isang napakataas na pagganap ng produkto. Ang aming SiC Cantilever Paddle ay kadalasang ginagamit sa mga heat treatment furnace para sa paghawak at pagsuporta sa mga silicon na wafer, chemical vapor deposition (CVD) at iba pang proseso ng pagproseso sa mga proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor. Ang mataas na temperatura na katatagan at mataas na thermal conductivity ng SiC na materyal ay nagsisiguro ng mataas na kahusayan at pagiging maaasahan sa proseso ng pagproseso ng semiconductor. Kami ay nakatuon sa pagbibigay ng mga de-kalidad na produkto sa mapagkumpitensyang presyo at umaasa na maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Magpadala ng Inquiry

Paglalarawan ng Produkto

Malugod kang tinatanggap na pumunta sa aming factory na Vetek Semiconductor para bumili ng pinakabagong selling, mababang presyo, at de-kalidad na SiC Cantilever Paddle. Inaasahan namin ang pakikipagtulungan sa iyo.

Mga Tampok ng SiC Cantilever Paddle ng VeTek Semiconductor:

Katatagan ng Mataas na Temperatura: Nagagawang mapanatili ang hugis at istraktura nito sa mataas na temperatura, na angkop para sa mga proseso ng pagproseso ng mataas na temperatura.

Corrosion Resistance: Napakahusay na corrosion resistance sa iba't ibang kemikal at gas.

Mataas na lakas at tigas: Nagbibigay ng maaasahang suporta upang maiwasan ang pagpapapangit at pinsala.

Mga Bentahe ng SiC Cantilever Paddle ng VeTek Semiconductor:

Mataas na katumpakan: Tinitiyak ng mataas na katumpakan sa pagproseso ang matatag na operasyon sa mga automated na kagamitan.

Mababang kontaminasyon: Ang high-purity na SiC na materyal ay binabawasan ang panganib ng kontaminasyon, na lalong mahalaga para sa mga ultra-clean na manufacturing environment.

Mataas na mekanikal na katangian: May kakayahang makatiis sa malupit na kapaligiran sa pagtatrabaho na may mataas na temperatura at mataas na presyon.

Mga partikular na aplikasyon ng SiC Cantilever Paddle at ang prinsipyo ng paggamit nito

Paghawak ng silicone wafer sa paggawa ng semiconductor:

Ang SiC Cantilever Paddle ay pangunahing ginagamit upang hawakan at suportahan ang mga silicon na wafer sa panahon ng paggawa ng semiconductor. Karaniwang kasama sa mga prosesong ito ang paglilinis, pag-ukit, patong at paggamot sa init. Prinsipyo ng aplikasyon:

Silicon wafer handling: Ang SiC Cantilever Paddle ay idinisenyo upang ligtas na i-clamp at ilipat ang mga silicon na wafer. Sa panahon ng mataas na temperatura at mga proseso ng paggamot sa kemikal, ang mataas na tigas at lakas ng materyal na SiC ay nagsisiguro na ang silicon na wafer ay hindi masisira o madi-deform.

Proseso ng Chemical Vapor Deposition (CVD):

Sa proseso ng CVD, ang SiC Cantilever Paddle ay ginagamit upang magdala ng mga silicon na wafer upang ang mga manipis na pelikula ay madeposito sa kanilang mga ibabaw. Prinsipyo ng aplikasyon:

Sa proseso ng CVD, ang SiC Cantilever Paddle ay ginagamit upang ayusin ang silicon wafer sa reaction chamber, at ang gaseous precursor ay nabubulok sa mataas na temperatura at bumubuo ng manipis na pelikula sa ibabaw ng silicon wafer. Ang chemical corrosion resistance ng SiC material ay nagsisiguro ng matatag na operasyon sa ilalim ng mataas na temperatura at kemikal na kapaligiran.

Parameter ng produkto ng SiC Cantilever Paddle

Mga pisikal na katangian ng Recrystallized Silicon Carbide
Ari-arian	Tipikal na halaga
Temperatura sa pagtatrabaho (°C)	1600°C (may oxygen), 1700°C (nagpapababa ng kapaligiran)
nilalaman ng SiC	> 99.96%
Libreng Si content	< 0.1%
Mabigat	2.60-2.70 g/cm3
Maliwanag na porosity	< 16%
Lakas ng compression	> 600 MPa
Malamig na baluktot na lakas	80-90 MPa (20°C)
Mainit na lakas ng baluktot	90-100 MPa (1400°C)
Thermal expansion @1500°C	4.70 10-6/°C
Thermal conductivity @1200°C	23 W/m•K
Elastic modulus	240 GPa
Thermal shock resistance	Napakahusay