MOCVD LED Epi Susceptor

VeTek Semiconductor'sMOCVD LED Epi Susceptoray isang pangunahing bahagi. Sa proseso ng paghahanda ng mga aparatong semiconductor,MOCVD LED Epi Susceptoray hindi lamang isang simpleng platform ng pag-init, ngunit isang tool din sa proseso ng katumpakan, na may malalim na epekto sa kalidad, rate ng paglago, pagkakapareho at iba pang mga aspeto ng mga materyales sa manipis na pelikula.

Ang mga tiyak na gamit ngMOCVD LED Epi Susceptorsa pagproseso ng semiconductor ay ang mga sumusunod:

Pag-init ng substrate at kontrol sa pagkakapareho:

Ang MOCVD Epitaxy Susceptor ay ginagamit upang magbigay ng pare-parehong pag-init upang matiyak ang matatag na temperatura ng substrate sa panahon ng paglaki ng epitaxial. Ito ay mahalaga para sa pagkuha ng mataas na kalidad na mga semiconductor na pelikula at pagtiyak ng pare-pareho sa kapal at kristal na kalidad ng mga epitaxial layer sa buong substrate.

Suporta para sa Chemical Vapor Deposition (CVD) Reactor Chambers:

Bilang isang mahalagang bahagi sa CVD reactor, sinusuportahan ng Susceptor ang pagtitiwalag ng mga metal na organikong compound sa mga substrate. Nakakatulong ito upang tumpak na i-convert ang mga compound na ito sa mga solidong pelikula upang mabuo ang ninanais na mga materyales ng semiconductor.

Isulong ang pamamahagi ng gas:

Ang disenyo ng Susceptor ay maaaring i-optimize ang daloy ng pamamahagi ng mga gas sa silid ng reaksyon, na tinitiyak na ang reaksyon ng gas ay nakikipag-ugnay sa substrate nang pantay-pantay, sa gayon ay nagpapabuti sa pagkakapareho at kalidad ng mga epitaxial film.

Makakatiyak kang bumili ng customizedMOCVD LED Epi Susceptormula sa amin, inaasahan naming makipagtulungan sa iyo. Kung gusto mong malaman ang karagdagang impormasyon, maaari kang sumangguni sa amin kaagad at sasagutin ka namin sa tamang oras!

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD SiC coating:

Mga tindahan ng produksyon:

Pangkalahatang-ideya ng chain ng industriya ng semiconductor chip epitaxy：