CVD SiC Graphite Cylinder

Ang CVD SiC Graphite Cylinder ng Vetek Semiconductor ay mahalaga sa mga kagamitang semiconductor, na nagsisilbing isang proteksiyon na kalasag sa loob ng mga reaktor upang pangalagaan ang mga panloob na bahagi sa mga setting ng mataas na temperatura at presyon. Ito ay epektibong nagpoprotekta laban sa mga kemikal at matinding init, na pinapanatili ang integridad ng kagamitan. Sa pambihirang pagsusuot at paglaban sa kaagnasan, tinitiyak nito ang mahabang buhay at katatagan sa mga mapaghamong kapaligiran. Ang paggamit sa mga cover na ito ay nagpapahusay sa pagganap ng semiconductor device, nagpapahaba ng habang-buhay, at nagpapagaan ng mga kinakailangan sa pagpapanatili at mga panganib sa pinsala. Maligayang pagdating sa pagtatanong sa amin.

Magpadala ng Inquiry

Paglalarawan ng Produkto

Ang Vetek Semiconductor's CVD SiC Graphite Cylinder ay may mahalagang papel sa semiconductor equipment. Ito ay kadalasang ginagamit bilang proteksiyon na takip sa loob ng reaktor upang magbigay ng proteksyon para sa mga panloob na bahagi ng reaktor sa mataas na temperatura at mataas na presyon na mga kapaligiran. Ang proteksiyon na takip na ito ay maaaring epektibong ihiwalay ang mga kemikal at mataas na temperatura sa reaktor, na pumipigil sa mga ito na magdulot ng pinsala sa kagamitan. Kasabay nito, ang CVD SiC Graphite Cylinder ay mayroon ding mahusay na wear at corrosion resistance, na ginagawa itong mapanatili ang katatagan at pangmatagalang tibay sa malupit na mga kapaligiran sa pagtatrabaho. Sa pamamagitan ng paggamit ng mga proteksiyon na takip na gawa sa materyal na ito, ang pagganap at pagiging maaasahan ng mga semiconductor na aparato ay maaaring mapabuti, pagpapahaba ng buhay ng serbisyo ng aparato habang binabawasan ang mga pangangailangan sa pagpapanatili at ang panganib ng pinsala.

Ang CVD SiC Graphite Cylinder ay may malawak na hanay ng mga aplikasyon sa semiconductor equipment, kabilang ngunit hindi limitado sa mga sumusunod na aspeto:

Heat treatment equipment: Ang CVD SiC Graphite Cylinder ay maaaring gamitin bilang protective cover o heat shield sa heat treatment equipment upang protektahan ang mga internal na bahagi mula sa mataas na temperatura habang nagbibigay ng mahusay na mataas na temperatura na resistensya.

Chemical Vapor deposition (CVD) reactor: Sa CVD reactor, maaaring gamitin ang CVD SiC Graphite Cylinder bilang proteksiyon na takip para sa chemical reaction chamber, na epektibong naghihiwalay sa reaction substance at nagbibigay ng corrosion resistance.

Mga application sa corrosive environment: Dahil sa mahusay nitong corrosion resistance, ang CVD SiC Graphite Cylinder ay maaaring gamitin sa chemically corroded environment, tulad ng corrosive gas o liquid environment habang gumagawa ng semiconductor.

Kagamitan sa paglago ng semiconductor: Mga proteksiyon na takip o iba pang bahagi na ginagamit sa kagamitan sa paglago ng semiconductor upang protektahan ang mga kagamitan mula sa mataas na temperatura, kemikal na kaagnasan at pagkasira upang matiyak ang katatagan ng kagamitan at pangmatagalang pagiging maaasahan.

Katatagan ng mataas na temperatura, paglaban sa kaagnasan, mahusay na mekanikal na mga katangian, thermal conductivity. Gamit ang mahusay na pagganap na ito, nakakatulong ito upang mapawi ang init nang mas mahusay sa mga semiconductor device, na pinapanatili ang katatagan at pagganap ng device.

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD SiC coating:

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD SiC coating
Ari-arian	Karaniwang Halaga
Istraktura ng Kristal	FCC β phase polycrystalline, higit sa lahat (111) oriented
Densidad	3.21 g/cm³
Katigasan	2500 Vickers tigas（500g load）
Laki ng Butil	2~10μm
Kalinisan ng Kemikal	99.99995%
Kapasidad ng init	640 J·kg-1·K-1
Temperatura ng Sublimation	2700 ℃
Flexural na Lakas	415 MPa RT 4-point
Young's Modulus	430 Gpa 4pt bend, 1300℃
Thermal Conductivity	300W·m-1·K-1
Thermal Expansion(CTE)	4.5×10-6K-1