Aixtron MOCVD Receptor

Bilang isang propesyonal na tagagawa at supplier ng Aixtron MOCVD Susceptor sa China, ang Aixtron MOCVD Susceptor ng Vetek Semiconductor ay malawakang ginagamit sa proseso ng manipis na film deposition ng produksyon ng semiconductor, lalo na na kinasasangkutan ng proseso ng MOCVD. Nakatuon ang Vetek Semiconductor sa pagmamanupaktura at pagbibigay ng mga produktong Aixtron MOCVD Susceptor na may mataas na pagganap. Maligayang pagdating sa iyong pagtatanong.

Magpadala ng Inquiry

Paglalarawan ng Produkto

Ang Susceptors na ginawa niVetek Semiconductoray gawa sa graphite substrate at silicon carbide (SiC) coating material. Dahil sa mas mataas na wear resistance, corrosion resistance at napakataas na tigas ng SiC material, ito ay partikular na angkop para sa paggamit sa malupit na kapaligiran sa proseso. Samakatuwid, ang Susceptors na ginawa ng Vetek Semiconductor ay maaaring direktang gamitin sa mataas na temperatura na mga proseso ng MOCVD nang walang karagdagang paggamot sa ibabaw.

Ang mga susceptor ay mga pangunahing bahagi sa pagmamanupaktura ng semiconductor, lalo na sa kagamitan ng MOCVD para sa mga proseso ng thin film deposition. Ang pangunahing tungkulin ngAixtron SiC Receiversa proseso ng MOCVD ay ang pagdadala ng mga semiconductor na wafer, tiyakin ang pare-pareho at mataas na kalidad na deposisyon ng mga manipis na pelikula sa pamamagitan ng pagbibigay ng pare-parehong pamamahagi ng init at kapaligiran ng reaksyon, sa gayon ay nakakamit ang mataas na kalidad na paggawa ng manipis na pelikula.

Aixtron MOCVD Receptoray karaniwang ginagamit upang suportahan at ayusin ang base ng semiconductor wafers upang matiyak ang katatagan ng wafer sa panahon ng proseso ng pag-deposition. Kasabay nito, ang surface coating ng Aixtron MOCVD Susceptor ay gawa sa silicon carbide (SiC), isang highly thermally conductive material. Tinitiyak ng SiC coating ang pare-parehong temperatura sa ibabaw ng wafer, at ang pare-parehong pagpainit ay mahalaga para sa pagkuha ng mga de-kalidad na pelikula.

Bukod dito, angAixtron MOCVD Receptorgumagawa kami ng mas malaking papel sa pagkontrol sa daloy at pamamahagi ng mga reaktibong gas sa pamamagitan ng na-optimize na disenyo ng mga materyales. Iwasan ang eddy currents at temperature gradients para makamit ang pare-parehong film deposition.

Higit sa lahat, sa proseso ng MOCVD, ang silicon carbide (SiC) coating material ay may corrosion resistance, kayaVetek Semiconductor'sAixtron MOCVD Receptoray maaari ring makatiis sa mataas na temperatura at kinakaing unti-unti na mga gas.

Pangunahing pisikal na katangian ngSIC COATING: