Tantalum Carbide Ring

Ang Tantalum Carbide (TaC) Ring ng VeTek Semiconductor ay gumagamit ng de-kalidad na graphite bilang pangunahing materyal at, salamat sa kakaibang istraktura nito, nagagawa nitong mapanatili ang hugis at mekanikal na katangian nito sa ilalim ng matinding kondisyon ng isang crystal growth furnace. Ang mataas na paglaban sa init ng Graphite ay nagbibigay ng mahusay na katatagan sa buongproseso ng paglago ng kristal.

Ang panlabas na layer ng TaC Ring ay natatakpan ng atantalum carbide coating, isang materyal na kilala sa napakataas nitong tigas, natutunaw na punto na higit sa 3880°C, at mahusay na panlaban sa kemikal na kaagnasan, na ginagawa itong lalong angkop para sa mga kapaligirang nagpapatakbo ng mataas na temperatura. Ang tantalum carbide coating ay nagbibigay ng isang malakas na hadlang upang epektibong maiwasan ang marahas na mga reaksiyong kemikal at matiyak na ang graphite core ay hindi nabubulok ng mataas na temperatura na mga gas ng furnace.

Sa panahon ngpaglaki ng kristal ng silicon carbide (SiC)., matatag at pare-parehong kondisyon ng paglago ay susi sa pagtiyak ng mataas na kalidad na mga kristal. Ang Tantalum Carbide Coating Ring ay gumaganap ng mahalagang papel sa pag-regulate ng daloy ng gas at pag-optimize ng pamamahagi ng temperatura sa loob ng furnace. Bilang isang gas guide ring, tinitiyak ng TaC Ring ang pare-parehong pamamahagi ng enerhiya ng init at mga reaksyong gas, na tinitiyak ang pare-parehong paglaki at katatagan ng mga kristal ng SiC.

Bilang karagdagan, ang mataas na thermal conductivity ng graphite na sinamahan ng proteksiyon na epekto ng Tantalum Carbide Coated ay nagbibigay-daan sa TaC Guide Ring na gumana nang matatag sa mataas na temperatura na kapaligiran na kinakailangan para sa paglaki ng SiC crystal. Ang structural strength at dimensional stability nito ay mahalaga sa pagpapanatili ng mga kondisyon sa furnace, na direktang nakakaapekto sa kalidad ng mga crystal na ginawa. Sa pamamagitan ng pagbabawas ng mga thermal fluctuation at mga kemikal na reaksyon sa loob ng furnace, ang TaC Coating Ring ay tumutulong sa pagbuo ng mga kristal na may mahusay na mga katangian ng elektroniko para sa mga high-performance na mga aplikasyon ng semiconductor.

Ang Tantalum Carbide Ring ng VeTek Semiconductor ay isang mahalagang bahagi ngsilicon carbide crystal growth furnacesat namumukod-tangi para sa mahusay na tibay, thermal stability at paglaban sa kemikal. Ang natatanging kumbinasyon ng graphite core at TaC coating ay nagbibigay-daan dito na mapanatili ang integridad ng istruktura at functionality sa ilalim ng malupit na mga kondisyon. Sa pamamagitan ng tumpak na pagkontrol sa temperatura at daloy ng gas sa loob ng furnace, ang TaC Coating Ring ay nagbibigay ng mga kinakailangang kondisyon para sa produksyon ng mga de-kalidad na SiC crystal, na kritikal para sa cutting-edge na paggawa ng bahagi ng semiconductor.

Tantalum carbide (TaC) coating sa isang microscopic cross-section：