TaC Coating Plate

Ang TaC Coating Plate ng VeTek Semiconductor ay isang kahanga-hangang produkto na nag-aalok ng mga pambihirang tampok at pakinabang. Dinisenyo nang may katumpakan at ininhinyero sa pagiging perpekto, ang aming TaC Coating Plate ay partikular na iniakma para sa iba't ibang mga aplikasyon sa silicon carbide (SiC) na proseso ng paglaki ng solong kristal. Ang mga tumpak na sukat ng TaC Coating Plate at matatag na konstruksyon ay nagpapadali sa pagsasama sa mga umiiral nang system, na tinitiyak ang tuluy-tuloy na pagkakatugma at mahusay na operasyon. Ang maaasahang pagganap at mataas na kalidad na coating nito ay nag-aambag sa pare-pareho at pare-parehong mga resulta sa SiC crystal growth applications. Kami ay nakatuon sa pagbibigay ng mga de-kalidad na produkto sa mapagkumpitensyang presyo at umaasa na maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Magpadala ng Inquiry

Paglalarawan ng Produkto

Makakatiyak kang bumili ng TaC Coating Plate mula sa aming pabrika. Gumagana ang aming TaC Coating Plate bilang mahalagang bahagi ng Semiconductor Epitaxy reactor, na tumutulong sa mahusay na epitaxial layer na Magbunga at kahusayan sa paglago. Pagbutihin ang kalidad ng produkto.

Para sa paggawa ng mga bagong semiconductors na may mas mahigpit at mas mahigpit na mga kapaligiran sa paghahanda, tulad ng paghahanda ng ikatlong pangunahing pangkat ng nitride epitaxial sheet (GaN) sa pamamagitan ng metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD), at ang paghahanda ng SiC epitaxial growth films sa pamamagitan ng chemical vapor ang deposition (CVD) ay nabubulok ng mga gas tulad ng H2 at NH3 sa mataas na temperatura na kapaligiran. Maaaring mabigo ang SiC at BN na mga proteksiyon na layer sa ibabaw ng mga kasalukuyang carrier ng paglago o gas channel dahil sa kanilang pagkakasangkot sa mga reaksiyong kemikal, na negatibong nakakaapekto sa kalidad ng mga produkto tulad ng mga kristal at semiconductors. Samakatuwid, kinakailangan upang makahanap ng isang materyal na may mas mahusay na katatagan ng kemikal at paglaban sa kaagnasan bilang isang proteksiyon na layer upang mapabuti ang kalidad ng mga kristal, semiconductor at iba pang mga produkto. Ang Tantalum carbide ay may mahusay na pisikal at kemikal na mga katangian, dahil sa papel na ginagampanan ng malakas na mga bono ng kemikal, ang mataas na temperatura ng kemikal na katatagan at paglaban sa kaagnasan ay mas mataas kaysa sa SiC, BN, atbp., ay isang mahusay na pag-asam ng aplikasyon ng paglaban sa kaagnasan, ang natitirang patong ng thermal stability. .

Ang VeTek Semiconductor ay may advanced na kagamitan sa produksyon at perpektong sistema ng pamamahala ng kalidad, mahigpit na kontrol sa proseso upang matiyak ang patong ng TaC sa mga batch ng pagkakapare-pareho ng pagganap, ang kumpanya ay may malakihang kapasidad sa produksyon, upang matugunan ang mga pangangailangan ng mga customer sa malaking dami ng supply, perpektong pagsubaybay sa kalidad mekanismo upang matiyak na matatag at maaasahan ang kalidad ng bawat produkto.

Parameter ng produkto ng TaC Coating Plate:

Mga pisikal na katangian ng TaC coating
Densidad	14.3 (g/cm³)
Tukoy na emissivity	0.3
Thermal expansion coefficient	6.3 10-6/K
Katigasan (HK)	2000 HK
Paglaban	1×10-5 Ohm*cm
Thermal na katatagan	<2500℃
Mga pagbabago sa laki ng graphite	-10~-20um
Kapal ng patong	≥20um karaniwang halaga (35um±10um)