TaC Coating Heater

Ang VeTek Semiconductor ay isang nangungunang tagagawa at innovator ng TaC Coating Heater sa China. Ang produktong ito ay may napakataas na punto ng pagkatunaw (mga 3880°C). Ang mataas na melting point ng TaC Coating Heater ay nagbibigay-daan dito na gumana sa napakataas na temperatura, lalo na sa paglaki ng gallium nitride (GaN) epitaxial layer sa proseso ng metal organic chemical vapor deposition (MOCVD). Ang VeTek Semiconductor ay nakatuon sa pagbibigay ng advanced na teknolohiya at mga solusyon sa produkto para sa industriya ng semiconductor. Inaasahan naming maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Magpadala ng Inquiry

Paglalarawan ng Produkto

Ang TaC Coating Heater ay isang high-performance heating element na malawakang ginagamit sa mga proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor. Ang ibabaw nito ay pinahiran ng materyal na tantalum carbide (TaC), na nagbibigay sa heater ng mahusay na paglaban sa mataas na temperatura, paglaban sa kaagnasan ng kemikal at mahusay na thermal conductivity.

Ang mga pangunahing aplikasyon ng TaC Coating Heater sa paggawa ng semiconductor ay kinabibilangan ng:

Sa panahon ng gallium nitride (GaN) na proseso ng paglaki ng epitaxial, ang TaC Coating Heater ay nagbibigay ng isang tiyak na kinokontrol na kapaligiran sa mataas na temperatura upang matiyak na ang epitaxial layer ay idineposito sa substrate sa isang pare-parehong rate at mataas na kalidad. Ang matatag na init na output nito ay nakakatulong upang makamit ang tumpak na kontrol sa mga materyales ng manipis na pelikula, sa gayon ay nagpapabuti sa pagganap ng device.

Bukod dito, sa proseso ng metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), na sinamahan ng mataas na temperatura na paglaban at thermal conductivity ng TaC coating, ang TaC Coating Heater ay karaniwang ginagamit upang painitin ang reaksyon ng gas, at sa pamamagitan ng pagbibigay ng pare-parehong pamamahagi ng init, ito ay nagtataguyod. ang kemikal na reaksyon nito sa ibabaw ng substrate, sa gayon ay nagpapabuti sa pagkakapareho ng epitaxial layer at bumubuo ng isang mataas na kalidad na pelikula.

Bilang nangunguna sa industriya sa mga produkto ng TaC Coating Heater, palaging sinusuportahan ng VeTek Semiconducto ang mga serbisyo sa pagpapasadya ng produkto at kasiya-siyang presyo ng produkto. Anuman ang iyong mga partikular na kinakailangan, tutugma kami sa pinakamahusay na solusyon para sa iyong mga pangangailangan sa TaC Coating Heater, at inaasahan ang iyong konsultasyon anumang oras.

Mga pangunahing pisikal na katangian ng TaC Coating Heater:

Mga pisikal na katangian ng TaC coating
Densidad	14.3 (g/cm³)
Tukoy na emissivity	0.3
Thermal expansion coefficient	6.3 10-6/K
Katigasan (HK)	2000 HK
Paglaban	1×10-5 Ohm*cm
Thermal na katatagan	<2500℃
Mga pagbabago sa laki ng graphite	-10~-20um
Kapal ng patong	≥20um karaniwang halaga (35um±10um)