Semiconductor Ceramic Nozzle

Ang semiconductor ceramic nozzle ay gumaganap ng isang mahalagang papel saProseso ng HDP-CVD, ginagamit upang tumpak na kontrolin ang daloy ng gas at matiyakmataas na kalidad na deposition ng pelikula. Ang ceramic nozzle spray ay tumpak na ginawa upang matiyak ang pare-pareho at nakokontrol na mga rate ng daloy ng gas, na pinapaliit ang posibleng turbulence kapag ang gas ay pumasok sa reaction chamber.

Teknikal na Pagtutukoy:

1.Materyal na Komposisyon:

Ang VeTeK Semiconductor Ceramic sand blasting nozzle ay karaniwang gawa sa Semiconductor ceramics tulad ng aluminum oxide (Al2O3),silikon karbida (SiC), o zirconium oxide (ZrO2), ang mga materyales na ito ay may mahusay na mga katangian:

    • mataas na thermal stability (makatiis sa mga temperaturang higit sa 1000℃)

    • paglaban sa kaagnasan ng mga reaktibong gas na ginagamit saMga proseso ng CVD(tulad ng silane, ammonia)

    • paglaban sa tuluy-tuloy na pagkakalantad sa plasma.

2. Structural Design:

    • Laki ng Orifice: Ang orifice ng Semiconductor ceramic nozzle ay siyentipikong idinisenyo upang paganahin ang tumpak na kontrol ng daloy ng gas, na nakakaapekto naman sa pagkakapareho at kapal ng pelikula.

    • Anggulo at Geometries: Eksaktong idinisenyo upang matiyak ang pare-parehong pamamahagi ng gas sa substrate, na pinapaliit ang mga depekto sa nakadeposito na layer.

Sa industriya ng semiconductor, ang Semiconductor ceramic blast nozzle ay gumaganap ng pangunahing papel sa proseso ng HDP-CVD. Ginagamit din ang mga ito upang magdeposito ng mga manipis na pelikula para sa produksyon ng microelectronics, na tinitiyak ang mataas na kalidad na mga coatings sa ibabaw na pare-pareho at walang mga contaminant.

Mga tindahan ng VeTeK Semiconductor Ceramic Nozzle: