CVD TaC Coating Crucible

Ang TaC Coating Rotation Susceptor ay gumaganap ng isang mahalagang papel sa mga proseso ng mataas na temperatura ng deposition gaya ng CVD at MBE, at ito ay isang mahalagang bahagi para sa pagpoproseso ng wafer sa paggawa ng semiconductor. Sa kanila,Patong ng TaCay may mahusay na paglaban sa mataas na temperatura, paglaban sa kaagnasan at katatagan ng kemikal, na nagsisiguro ng mataas na katumpakan at mataas na kalidad sa panahon ng pagpoproseso ng wafer.

Ang CVD TaC Coating Crucible ay karaniwang binubuo ng TaC Coating atgrapaytsubstrate. Kabilang sa mga ito, ang TaC ay isang high melting point ceramic material na may melting point na hanggang 3880°C. Ito ay may napakataas na tigas (Vickers hardness hanggang 2000 HV), chemical corrosion resistance at malakas na oxidation resistance. Samakatuwid, ang TaC Coating ay isang mahusay na materyal na lumalaban sa mataas na temperatura sa teknolohiya ng pagproseso ng semiconductor.

Ang graphite substrate ay may magandang thermal conductivity (thermal conductivity ay humigit-kumulang 21 W/m·K) at mahusay na mechanical stability. Tinutukoy ng katangiang ito na ang grapayt ay nagiging isang perpektong patongsubstrate.

Ang CVD TaC Coating Crucible ay pangunahing ginagamit sa mga sumusunod na teknolohiya sa pagproseso ng semiconductor:

Paggawa ng wafer: Ang VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Crucible ay may mahusay na mataas na temperatura na resistensya (melting point hanggang 3880°C) at corrosion resistance, kaya madalas itong ginagamit sa mga pangunahing proseso ng pagmamanupaktura ng wafer tulad ng high temperature vapor deposition (CVD) at epitaxial growth. Kasama ng mahusay na structural stability ng produkto sa mga ultra-high temperature na kapaligiran, tinitiyak nito na ang kagamitan ay maaaring gumana nang matatag sa mahabang panahon sa ilalim ng lubhang malupit na mga kondisyon, at sa gayon ay epektibong nagpapabuti sa produksyon na kahusayan at kalidad ng mga wafer.

Epitaxial na proseso ng paglago: Sa mga prosesong epitaxial tulad ngchemical vapor deposition (CVD)at molecular beam epitaxy (MBE), ang CVD TaC Coating Crucible ay may mahalagang papel sa pagdadala. Ang TaC Coating nito ay hindi lamang maaaring mapanatili ang mataas na kadalisayan ng materyal sa ilalim ng matinding temperatura at kinakaing unti-unti na kapaligiran, ngunit epektibo ring maiwasan ang kontaminasyon ng mga reactant sa materyal at ang kaagnasan ng reaktor, na tinitiyak ang katumpakan ng proseso ng produksyon at pagkakapare-pareho ng produkto.

Bilang nangungunang tagagawa at pinuno ng CVD TaC Coating Crucible ng China, ang VeTek Semiconductor ay maaaring magbigay ng mga customized na produkto at teknikal na serbisyo ayon sa iyong kagamitan at mga kinakailangan sa proseso. Taos-puso kaming umaasa na maging iyong pangmatagalang kasosyo sa China.

Tantalum carbide (TaC) coating sa isang microscopic cross-section：

Mga pisikal na katangian ng TaC coating：

VeTek Semiconductor Mga tindahan ng CVD TaC Coating Crucible: