CVD SiC Focus Ring

Bilang pundasyon ng mga modernong kagamitang elektroniko at teknolohiya ng impormasyon, ang teknolohiyang semiconductor ay naging isang kailangang-kailangan na bahagi ng lipunan ngayon. Mula sa mga smartphone hanggang sa mga computer, kagamitan sa komunikasyon, kagamitang medikal at solar cell, halos lahat ng modernong teknolohiya ay umaasa sa paggawa at paggamit ng mga semiconductor device.

Habang ang mga kinakailangan para sa functional integration at performance ng mga electronic device ay patuloy na tumataas, ang teknolohiya ng proseso ng semiconductor ay patuloy ding umuunlad at bumubuti. Bilang pangunahing link sa teknolohiya ng semiconductor, direktang tinutukoy ng proseso ng pag-ukit ang istruktura at katangian ng device.

Ang proseso ng pag-ukit ay ginagamit upang tumpak na alisin o ayusin ang materyal sa ibabaw ng semiconductor upang mabuo ang nais na istraktura at pattern ng circuit. Tinutukoy ng mga istrukturang ito ang performance at functionality ng mga semiconductor device. Ang proseso ng pag-ukit ay nakakamit ang katumpakan sa antas ng nanometer, na siyang batayan para sa paggawa ng high-density, high-performance integrated circuits (ICs).

Ang CVD SiC Focus Ring ay isang pangunahing bahagi sa dry etching, pangunahing ginagamit upang ituon ang plasma upang magkaroon ito ng mas mataas na density at enerhiya sa ibabaw ng wafer. Ito ay may tungkulin ng pantay na pamamahagi ng gas. Ang VeTek Semiconductor ay nagpapalaki ng SiC layer sa pamamagitan ng layer sa pamamagitan ng proseso ng CVD at sa wakas ay nakuha ang CVD SiC Focus Ring. Ang inihandang CVD SiC Focus Ring ay maaaring ganap na matugunan ang mga kinakailangan ng proseso ng pag-ukit.

Ang CVD SiC Focus Ring ay mahusay sa mga mekanikal na katangian, kemikal na katangian, thermal conductivity, mataas na temperatura na resistensya, ion etching resistance, atbp.

● Binabawasan ng mataas na density ang volume ng pag-ukit

● Mataas na banda gap at mahusay na pagkakabukod

● Mataas na thermal conductivity, mababang expansion coefficient, at heat shock resistance

● Mataas na elasticity at magandang mekanikal na epekto ng resistensya

● Mataas na tigas, wear resistance, at corrosion resistance

Ang VeTek Semiconductor ay may nangungunang mga kakayahan sa pagproseso ng CVD SiC Focus Ring sa China. Samantala, tinutulungan kami ng mature na technical team at sales team ng VeTek Semiconductor na magbigay sa mga customer ng pinaka-angkop na mga produkto ng focus ring. Ang pagpili ng VeTek semiconductor ay nangangahulugan ng pakikipagsosyo sa isang kumpanyang nakatuon sa pagtulak sa mga hangganan ngCVD silicon carbide pagbabago.

Sa matinding diin sa kalidad, pagganap, at kasiyahan ng customer, naghahatid kami ng mga produkto na hindi lamang nakakatugon ngunit lumalampas sa mahigpit na hinihingi ng industriya ng semiconductor. Hayaan kaming tulungan kang makamit ang higit na kahusayan, pagiging maaasahan, at tagumpay sa iyong mga operasyon gamit ang aming advanced na  CVD silicon Carbide solution.

SEM DATA NG CVD SIC FILM

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD SiC coating

VeTek SemiconductorMga tindahan ng produkto ng CVD SiC Focus Ring: