Tantalum Carbide Coated Chuck

Nagbibigay ang VeTek Semiconductor ng mataas na kalidad na Tantalum Carbide Coated Chuck, mga bahagi ng SiC coating na may mapagkumpitensyang presyo. Maligayang pagdating sa pagtatanong sa amin.VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Coated Chuck, partikular na idinisenyo para sa AIXTRON G10 MOCVD system. Pinahuhusay ng accessory na ito ang kahusayan at kalidad sa paggawa ng semiconductor, na naghahatid ng pambihirang pagganap at pagiging maaasahan.

Ginawa mula sa mga de-kalidad na materyales at ginawa nang may katumpakan, nagtatampok ang chuck ng graphite substrate na pinahiran ng CVD tantalum carbide (TaC). Ang coating na ito ay nagbibigay ng mahusay na thermal stability, mataas na kadalisayan, at paglaban sa mataas na temperatura. Tinitiyak nito ang maaasahang pagganap sa mga hinihinging kondisyon ng mga proseso ng MOCVD.

Ang chuck ay nako-customize upang mapaunlakan ang iba't ibang laki ng semiconductor wafer, na ginagawa itong angkop para sa iba't ibang mga kinakailangan sa produksyon. Ang matatag na konstruksyon nito ay nagpapaliit sa downtime at mga gastos sa pagpapanatili na nauugnay sa mga wafer carrier at susceptor.

Gamit ang VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Coated Chuck, ang AIXTRON G10 MOCVD system ay nakakamit ng mas mataas na kahusayan at higit na mahusay na mga resulta sa paggawa ng semiconductor. Ang pambihirang thermal stability nito, compatibility sa iba't ibang laki ng wafer, at maaasahang performance ay ginagawa itong mahalagang tool para sa pag-optimize ng kahusayan sa produksyon at pagkamit ng mga natitirang resulta sa mapaghamong MOCVD na kapaligiran.

Parameter ng produkto ng Tantalum Carbide Coated Chuck

Pagganap ng wafer pagkatapos gamitin ang aming mga bahagi:

Tindahan ng Produksyon ng VeTek Semiconductor

Pangkalahatang-ideya ng chain ng industriya ng semiconductor chip epitaxy: