ALD Receptor

Bilang isang propesyonalALD Receivertagagawa sa China, ang aming produktoALD ReceiverTinutukoy iyon ng tumpak na kontrol ng temperatura, pare-parehong pamamahagi ng gas at mahusay na thermal conductivity at iba pang katangian ng produktoALD Receivergumaganap ng isang mahalagang papel sa proseso ng atomic layer deposition (ALD). Mahalagang tungkulin, tanggapin ang iyong konsultasyon.

Uniform thin film deposition:ALD Susceptor ay nagsisiguro ng pare-parehong pagdedeposito ng mga atomic na layer sa buong wafer surface sa panahon ng atomic layer deposition (ALD) na proseso. Ang kakaibang umiikot na disenyo nito ay nagbibigay-daan sa mga gas at reactant na pantay na makontak ang wafer surface, na nagreresulta sa pare-parehong kapal ng pelikula. Ito ay kritikal para sa high-precision semiconductor manufacturing.

Pagbutihin ang kalidad ng deposition: Sa pamamagitan ng pag-optimize ng pagkontrol sa temperatura at pamamahagi ng gas, ang ALD Susceptor ay makabuluhang nagpapabuti sa kalidad at pagganap ng pelikula, binabawasan ang mga depekto at hindi pagkakapareho. Ginagawa nitong perpekto para sa high-precision na semiconductor at paggawa ng electronic device, na tinitiyak ang pagiging maaasahan at pagganap ng produkto.

Sinusuportahan ang multi-wafer processing:Ang ilang partikular na disenyo ng ALD Susceptor ay nagbibigay-daan sa maramihang mga wafer na maproseso nang sabay-sabay, na nagpapataas ng kahusayan sa produksyon. Ito ay lalong mahalaga para sa mga kapaligiran sa pagmamanupaktura ng high-throughput, na may kakayahang matugunan ang mga pangangailangan ng malakihang produksyon.

Tumatanggap ng iba't ibang laki at uri ng mga wafer:Ang ALD Susceptors ay karaniwang idinisenyo para sa mataas na compatibility at maaaring suportahan ang iba't ibang laki at uri ng mga wafer. Ginagawa nitong epektibo sa iba't ibang proseso ng produksyon, na nagbibigay ng higit na kakayahang umangkop at kakayahang umangkop.

Bawasan ang mga gastos sa produksyon:Dahil sa mahusay nitong pamamahagi ng gas at pare-parehong mga kakayahan sa pag-init, pinapataas ng ALD Susceptor ang kahusayan ng proseso ng pag-deposition, at sa gayon ay binabawasan ang mga gastos sa materyal na basura at produksyon. Hindi lamang ito nakakatulong na mapabuti ang kahusayan sa produksyon ngunit makabuluhang binabawasan ang mga gastos sa pagmamanupaktura.

Mga pangunahing pisikal na katangian ng CVD SiC coating:

Mga tindahan ng produksyon:

Pangkalahatang-ideya ng chain ng industriya ng semiconductor chip epitaxy：